熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：金坂憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-056637
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245274
出願日： 1994年03月02日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】光透過材が光源からの不要な波長の赤外線だけでなく被処理体から輻射される赤外線を吸収して加熱することを防止し、被処理体を一定の温度で均一に加熱処理することができる熱処理装置を提供する。【構成】被処理体Wを収容して熱処理する処理室2に前記被処理体Wに臨んで光透過材4からなる光透過窓5を設ける。この光透過窓5の光透過材4を通して前記被処理体Wを光照射により加熱する光源7を設ける。前記光透過窓5の光透過材4を複層4a,4bに設け、これら光透過材4a,4b間に冷却ガス等の冷媒Fを通して前記光透過材4a,4bを冷却する冷却層26を形成する。これにより、前記光透過材4a,4bが被処理体Wから輻射される赤外線等を吸収しても加熱するようなことはない。

請求項（抜粋）：

被処理体を収容して熱処理する処理室と、この処理室に前記被処理体に臨んで設けられた光透過材からなる光透過窓と、この光透過窓の光透過材を通して前記被処理体を光照射により加熱する光源とを備え、前記光透過窓の光透過材を複層に設け、これら光透過材間に冷却ガス等の冷媒を通して光透過材を冷却する冷却層を形成したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/26 , H01L 21/22 511 , H01L 21/324

引用特許：

審査官引用 (8件)

真空加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-168042 出願人：富士通株式会社
特開昭61-155297
特開平4-294526

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