膜モジュールの洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木戸一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-216849
公開番号（公開出願番号）：特開2003-024754
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月28日
要約：

【要約】【課題】膜モジュールの洗浄処理と同時に活性炭の再生処理も行うことができ、膜モジュールの寿命延長が図れるだけでなく、処理設備全体における設備コストや運転コストの低減が図れる膜モジュールの洗浄方法を提供する。【解決手段】粉末活性炭を投入した原水の固液分離を行う膜モジュールの洗浄方法であって、前記原水に過酸化水素を添加し、好ましくは、原水中の過酸化水素濃度が10%になるようにして膜モジュールに接触させ、膜モジュールを洗浄すると同時に活性炭の再生処理を行う。

請求項（抜粋）：

粉末活性炭を投入した原水の固液分離を行う膜モジュールの洗浄方法であって、前記原水に過酸化水素を添加して膜モジュールに接触させることを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。

IPC (2件)：

B01D 65/06 , C02F 1/28

FI (2件)：

B01D 65/06 , C02F 1/28 D

Fターム (23件)：

4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006KA01 , 4D006KA31 , 4D006KA33 , 4D006KB12 , 4D006KC02 , 4D006KC12 , 4D006KC16 , 4D006KD22 , 4D006KE11R , 4D006PA10 , 4D006PB15 , 4D006PB70 , 4D024AA01 , 4D024AB04 , 4D024BA02 , 4D024BB01 , 4D024BC04 , 4D024DA01 , 4D024DA07 , 4D024DB05 , 4D024DB23

引用特許：

審査官引用 (10件)

浸漬式膜処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-213263 出願人：栗田工業株式会社
水処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-235951 出願人：オルガノ株式会社
超純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-100004 出願人：栗田工業株式会社

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