特許
J-GLOBAL ID：200903068551022837

超純水製造装置

発明者：
澤田 繁樹

澤田 繁樹 について

, 
老沼 正芳

老沼 正芳 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-100004
公開番号（公開出願番号）：特開平9-285787
出願日： 1996年04月22日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：
【要約】【課題】 回収純水の処理工程を組み込んだ超純水製造装置において、装置設備の小型化及び簡略化を図る。【解決手段】 回収純水と原水との混合水に活性炭を添加した後、酸素を供給して膜分離処理し、透過水を1次純水システムII及び2次純水システムIII で処理する。【効果】 原水と回収純水との混合水に、粉末活性炭を供給し、更に酸素を供給して有機物を効率的に吸着ないし分解除去した水を膜分離装置で固液分離して粉末活性炭を除去することにより、1次純水システムの被処理水として十分に高い水質の透過水を得ることができる。
請求項（抜粋）：
半導体製造工程から排出される回収純水と原水とを混合した水を1次純水システム及び2次純水システムに順次通水して超純水を製造する超純水製造装置において、該回収純水と原水とを混合した水に粉末活性炭を供給する手段、活性炭を添加した水に酸素を供給する手段、酸素を供給した水を固液分離する膜分離装置を設け、該膜分離装置の透過水を1次純水システムに供給するようにした超純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/44 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10
FI (4件)：
C02F 1/44 J ,  C02F 1/28 D ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 Z
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (5件)
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