特許

J-GLOBAL ID：200903047607156729

パターン形成体の製造方法

発明者： 小林 弘典
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-375149
公開番号（公開出願番号）：特開2004-204060
出願日： 2002年12月25日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

【課題】本発明は、高精細なパターンを容易に形成可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層の間に、所望のパターン状に小孔を有する厚さ2mm以下のマスクを介在させて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、エネルギー照射された部分の前記特性変化層の特性を変化させ、次いで前記光触媒含有層側基板および前記マスクを取り外すことにより、前記特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光触媒を含有する光触媒含有層および基材を有する光触媒含有層側基板と、前記光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層を有するパターン形成体用基板とを、前記光触媒含有層および前記特性変化層の間に、所望のパターン状に小孔を有する厚さ2mm以下のマスクを介在させて配置した後、所定の方向からエネルギーを照射することにより、エネルギー照射された部分の前記特性変化層の特性を変化させ、次いで前記光触媒含有層側基板および前記マスクを取り外すことにより、前記特性変化層上に特性の変化したパターンを有するパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造方法。

IPC (3件)：

C08J7/12 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

FI (3件)：

C08J7/12 Z ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505

Fターム (24件)：

2H048BA15 ,  2H048BA25 ,  2H048BA43 ,  2H048BA54 ,  2H048BA64 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02 ,  2H091FB04 ,  2H091FB13 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC25 ,  2H091LA16 ,  4F073AA01 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA19 ,  4F073BA26 ,  4F073BA33 ,  4F073BB01 ,  4F073BB08 ,  4F073BB11 ,  4F073CA45 ,  4F073GA11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• パターン形成体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-053774   出願人：大日本印刷株式会社
• パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-086168   出願人：大日本印刷株式会社