特許
J-GLOBAL ID：200903047631905694

炭素系複合構造体及びその製造方法

発明者：
阿多 誠文

阿多 誠文 について

, 
ラム マティアス

ラム マティアス について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について

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財団法人地球環境産業技術研究機構

財団法人地球環境産業技術研究機構 について


代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179290
公開番号（公開出願番号）：特開2001-009961
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：
【要約】【課題】 構成材料の一部にフラーレン系薄膜を用い、各層間の密着性を高め、強度にすぐれた太陽電池やセンサー等が得られる、炭素系複合構造体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 石英ガラス等の基板1の上に、炭素系薄膜2とフラーレン系薄膜3とが積層された、炭素系複合構造体である。そして炭素系薄膜2の形成には、有機化合物の熱分解を、またフラーレン系薄膜3の形成には、フラーレンの蒸着法や重合法を用いる。
請求項（抜粋）：
基体と炭素系薄膜とフラーレン系薄膜との積層体からなる炭素系複合構造体。
IPC (5件)：
B32B 9/00 ,  C01B 31/02 101 ,  C01B 31/02 ,  C23C 16/26 ,  H01L 31/04
FI (5件)：
B32B 9/00 A ,  C01B 31/02 101 F ,  C01B 31/02 101 Z ,  C23C 16/26 ,  H01L 31/04 Z
Fターム (32件)：
4F100AA37B ,  4F100AA37C ,  4F100AD11B ,  4F100AD11C ,  4F100AD20C ,  4F100AK79C ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100GB61 ,  4F100JG01 ,  4F100JK06 ,  4F100JL11 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4G046CA00 ,  4G046CB03 ,  4G046CB09 ,  4G046CC06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BB01 ,  4K030BB12 ,  4K030FA01 ,  4K030LA16 ,  5F051AA20 ,  5F051FA06 ,  5F051GA03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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