特許
J-GLOBAL ID：200903047724120875

液浸リソグラフィ装置用の液体を捕集するための流出通路

発明者：
ノヴァック, トーマス, ダブリュー.

ノヴァック, トーマス, ダブリュー. について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 川北 喜十郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509567
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523027
出願日： 2004年04月01日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
画像をデバイス(30)に転写する露光装置(10)は光学アセンブリ(16)、液浸流体システム(252)およびデバイスステージアセンブリ(20)を含む。光学アセンブリ(16)はデバイス(30)の上方にギャップ(246)を空けて位置する。液浸流体システム(252)はギャップ(246)を液浸流体(248)で充たす。デバイスステージアセンブリ(20)は、ギャップ(246)から出る液浸流体(248)のデバイス(30)から遠ざかる移動を容易にする傾斜領域(282)を含む。デバイスステージアセンブリ(20)は、捕集領域(284)、およびそこから液浸流体(248)を回収する回収システム(286)を含むことができる。
請求項（抜粋）：
デバイスを支持するように構成された支持体と、 前記デバイス上に像を投影するように構成された光学アセンブリと、 前記デバイスと前記光学アセンブリの間に設けられたギャップと、 前記ギャップに液浸流体を提供する液浸流体システムと、 前記支持体を保持するように構成されたデバイスステージアセンブリであって、前記支持体の近くに設けられて前記ギャップから出る液浸流体の前記ギャップから遠ざかる流れを促進するように構成された傾斜領域を有するデバイスステージアセンブリとを備えた装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515G ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (3件)：
5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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