特許
J-GLOBAL ID：200903062048565132

露光装置及び露光方法、デバイス製造方法

発明者：
根井 正洋

根井 正洋 について

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小林 直行

小林 直行 について

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荒井 大

荒井 大 について

, 
大和 壮一

大和 壮一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-412584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101488
出願日： 2003年12月10日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 液浸法で露光処理する場合において基板の外側に液体が流出しても環境変動を抑えて精度良くパターン転写できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系PLの像面側を局所的に液体50で満たし、液体50と投影光学系PLとを介してパターンの像を基板P上に投影することによって、基板Pを露光するものであって、基板Pの外側に流出した液体50を回収する回収装置20を備えている。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する露光装置であって、 パターンの像を基板に投影する投影光学系と、 前記基板の外側に流出した液体を回収する回収装置を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (6件)：
5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA11 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (14件)
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