特許

J-GLOBAL ID：200903047727140087

凹凸パターンシート及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置

発明者： 篠塚 啓
出願人/特許権者： 王子製紙株式会社
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-339533
公開番号（公開出願番号）：特開2009-162831
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：

【課題】光取り出し効率に優れた光学シート又はその原版として好適な凹凸パターンシート、及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置を提供する。 【解決手段】一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Xと凹凸構造Yが重畳した凹凸構造Zとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。 凹凸構造X:凹凸の最頻ピッチPxが2〜200μmであり、前記最頻ピッチPxに対する最頻高さHxの比Rxが0.350〜0.714である1次元又は2次元の凹凸構造。 凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチPyが3〜380nmであり、前記最頻ピッチPyに対する最頻高さHyの比Ryが0.5〜10である2次元凹凸構造。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Xと凹凸構造Yが重畳した凹凸構造Zとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。 凹凸構造X:凹凸の最頻ピッチPxが2〜200μmであり、前記最頻ピッチPxに対する最頻高さHxの比Rxが0.350〜0.714である1次元又は2次元の凹凸構造。 凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチPyが3〜380nmであり、前記最頻ピッチPyに対する最頻高さHyの比Ryが0.5〜10である2次元凹凸構造。

IPC (3件)：

G02B 5/02 ,  G02F 1/133 ,  C23F 4/00

FI (3件)：

G02B5/02 C ,  G02F1/1335 500 ,  C23F4/00 A

Fターム (34件)：

2H042BA04 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  2H042BA18 ,  2H042BA20 ,  2H091FA37X ,  2H091FB02 ,  2H091FC19 ,  2H091FD23 ,  2H091LA03 ,  2H191FA40X ,  2H191FB02 ,  2H191FC26 ,  2H191FD43 ,  2H191LA03 ,  4K057DA05 ,  4K057DA12 ,  4K057DB02 ,  4K057DB03 ,  4K057DB04 ,  4K057DB05 ,  4K057DB06 ,  4K057DC10 ,  4K057DD03 ,  4K057DD04 ,  4K057DE02 ,  4K057DE04 ,  4K057DE06 ,  4K057DE07 ,  4K057DE08 ,  4K057DE11 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DN03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 有機発光素子及び表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-097176   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭58-120255号公報
  
• 凸凹パターンの形成方法および凸凹パターン形成用部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-094985   出願人：株式会社東芝

審査官引用 (4件)

• 反射防止膜とその製法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-538034   出願人：フラウンホファー.ゲゼルシャフト.ツール.フォルデンウング.デール.アンゲヴァンドテン.フォルシュング.エー.ファウ.
• 有機発光素子及び表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-097176   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭58-120255
  
• 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-001725   出願人：株式会社東芝