凹凸パターンシート及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-339533
公開番号（公開出願番号）：特開2009-162831
出願日： 2007年12月28日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：

【課題】光取り出し効率に優れた光学シート又はその原版として好適な凹凸パターンシート、及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置を提供する。【解決手段】一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Xと凹凸構造Yが重畳した凹凸構造Zとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。凹凸構造X:凹凸の最頻ピッチPxが2〜200μmであり、前記最頻ピッチPxに対する最頻高さHxの比Rxが0.350〜0.714である1次元又は2次元の凹凸構造。凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチPyが3〜380nmであり、前記最頻ピッチPyに対する最頻高さHyの比Ryが0.5〜10である2次元凹凸構造。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Xと凹凸構造Yが重畳した凹凸構造Zとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。凹凸構造X:凹凸の最頻ピッチPxが2〜200μmであり、前記最頻ピッチPxに対する最頻高さHxの比Rxが0.350〜0.714である1次元又は2次元の凹凸構造。凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチPyが3〜380nmであり、前記最頻ピッチPyに対する最頻高さHyの比Ryが0.5〜10である2次元凹凸構造。

IPC (3件)：

G02B 5/02 , G02F 1/133 , C23F 4/00

FI (3件)：

G02B5/02 C , G02F1/1335 500 , C23F4/00 A

Fターム (34件)：

2H042BA04 , 2H042BA14 , 2H042BA15 , 2H042BA18 , 2H042BA20 , 2H091FA37X , 2H091FB02 , 2H091FC19 , 2H091FD23 , 2H091LA03 , 2H191FA40X , 2H191FB02 , 2H191FC26 , 2H191FD43 , 2H191LA03 , 4K057DA05 , 4K057DA12 , 4K057DB02 , 4K057DB03 , 4K057DB04 , 4K057DB05 , 4K057DB06 , 4K057DC10 , 4K057DD03 , 4K057DD04 , 4K057DE02 , 4K057DE04 , 4K057DE06 , 4K057DE07 , 4K057DE08 , 4K057DE11 , 4K057DE14 , 4K057DE20 , 4K057DN03

引用特許：

出願人引用 (7件)

有機発光素子及び表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-097176 出願人：キヤノン株式会社
特開昭58-120255号公報
特開昭58-120255号公報

全件表示

審査官引用 (4件)

反射防止膜とその製法
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-538034 出願人：フラウンホファー.ゲゼルシャフト.ツール.フォルデンウング.デール.アンゲヴァンドテン.フォルシュング.エー.ファウ.
有機発光素子及び表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-097176 出願人：キヤノン株式会社
特開昭58-120255

全件表示

前のページに戻る