電子ビーム加速器を利用した産業用エックス線源及び電子線源

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：相田伸二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-240021
公開番号（公開出願番号）：特開2000-284099
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】電子ビーム及びエックス線を空間的に均一に照射できる照射装置で形成された、電子ビーム源及びエックス線源を提供する。【解決手段】 10MeV級のエネルギーと数kW以上の出力を有する連続運転が可能で加速空洞内で電子ビームの交差がない電子ビーム加速器と、これから引き出された電子ビームを利用して電子ビーム及びエックス線を空間的に均一に照射できる照射装置で形成された電子ビーム源及びエックス線源を提供するため、同軸加速空洞30と、同軸加速空洞内にTM010モードの電磁界を形成するRFシステムを含むTM010モードを加速モードとして用いる加速器100と、加速器で加速された電子を横方向及び縦方向にすべて偏向させて電子ビームの軌道を引き出し窓の中心に向けて半径方向に入射するように電子ビームを誘導する手段を含む照射装置70,80とを含むエックス線源及び電子線源を開示する。

請求項（抜粋）：

a)同軸を有するシリンダ形態の内部導体及び外部導体と、前記内部導体と外部導体の両端を密封しながら支える二つの側面導体を有しており、前記内部導体と外部導体と側面導体からなる空間が真空である同軸加速空洞と、b)前記同軸加速空洞の一つの側面導体側から反対側側面導体側に前記同軸加速空洞内に電子を入射させる電子銃と、c)前記同軸加速空洞の二つの側面導体に位置し、同軸加速空洞を通過する電子を180°偏向させる複数個の偏向電磁石と、d)前記真空容器にRFを印加するRFシステムとを含んでおり、前記同軸加速空洞内にTM010モードを加速モードとして用いることを特徴とする加速器と、前記加速器で加速された電子ビームを被照射物に照射する照射装置とを含むことを特徴とするエックス線源及び電子線源。

IPC (4件)：

G21K 5/02 , G21K 5/04 , H05G 2/00 , H05H 7/18

FI (4件)：

G21K 5/02 X , G21K 5/04 E , H05H 7/18 , H05G 1/00 L

引用特許：

出願人引用 (12件)

特開平1-176644
電子線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-110760 出願人：電気興業株式会社
特開昭53-004076

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審査官引用 (6件)

電子線照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-110760 出願人：電気興業株式会社
特開平1-176644
高周波加速空洞
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-064153 出願人：理化学研究所, 株式会社神戸製鋼所

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