特許
J-GLOBAL ID：200903047930147771
単一反応槽における多段水素処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-530088
公開番号（公開出願番号）：特表2001-507738
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】2つ以上の水素処理反応段を含有する単一反応槽内で、液体石油および化学流を水素処理する方法。第1の反応段からの液体生成物は、H2S、NH3およびその他の溶解ガスをストリッピングされてから、次の下流反応域に送られる。下流反応域からの生成物も溶解ガスをストリッピングされて、最終反応段に至るまで次の下流反応段に送られ、液体生成物は溶解ガスをストリッピングされて回収され、あるいはさらに処理するために受け渡される。処理ガスの流れは、液体の流れに対して反応段が配置される方向とは逆の方向である。
請求項（抜粋）：
それぞれ水素処理触媒(hydroprocessing catalyst)を含有する2つ以上の垂直配置された反応段からなる単一反応槽で、水素含有処理ガスの存在下に炭化水素質原料油を水素処理する方法であって、該方法において(1)各反応段の後に非反応段が続き、(2)原料油の流れに対して第1の反応段が、処理ガスの流れに対しては最終の反応段であり、(3)原料油の流れに対して下流の各連続する反応段が、処理ガスの流れに対しては次の連続する上流段であり、(4)原料油と処理ガスの両者が単一反応槽内で並流して流れ、さらに該方法は、下記工程(a)〜(g)を含むことを特徴とする水素処理方法。(a)該炭化水素質原料油を、原料油の流れに対して第1の反応段において、貫 流水素含有処理ガスおよび下流反応段からの循環処理ガスを含む処理ガスの 存在下、該反応槽内で反応させる工程であって、該反応段は、水素処理触媒 を含有し、水素処理条件で運転されることにより、液体成分および蒸気成分 とからなる反応生成物を生成する工程(b)該蒸気成分と液体成分とを分離する工程(c)該液体成分だけのためのストリッピング域中で、該液体成分から溶解ガス 状物質をストリッピングする工程(d)工程(c)の該ストリッピングされた液体成分を、原料油の流れに対して 次の下流反応段において反応させる工程であって、該反応段は、水素処理触 媒を含み、水素処理条件で運転されることにより、液体成分および蒸気成分 とからなる反応生成物を結果的に生成する工程(e)該蒸気成分と該液体成分とを分離する工程(f)該液体成分だけのためのストリッピング域において、該液体成分から溶解 ガス状物質をストリッピングする工程(g)該液体流が、原料油の流れに対して最終の下流反応段で処理されるまで、 工程(d)、(e)、および(f)を繰り返す工程
IPC (6件)：
C10G 65/02
, C10G 45/04
, C10G 45/50
, C10G 45/52
, C10G 47/16
, C10G 47/18
C10G 65/02
, C10G 45/04 Z
, C10G 45/50
, C10G 45/52
, C10G 47/16
, C10G 47/18
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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