酸化珪素膜で被覆された光触媒を含有する無機硬化体

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-218638
公開番号（公開出願番号）：特開2008-043832
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：

【課題】従来の光触媒を使用した場合と比較し、光触媒活性の高い、すなわち、有害物質の除去性能及び浄化性能に優れる無機硬化体を提供すること。【解決手段】光触媒活性を有する基体と、該基体を被覆する、実質的に細孔を有しない酸化珪素膜とを有し、アルカリ金属含有量が1ppm以上1000ppm以下である、光触媒を含有することを特徴とする無機硬化体を製造する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

光触媒活性を有する基体と、該基体を被覆する、実質的に細孔を有しない酸化珪素膜とを有し、アルカリ金属含有量が1ppm以上1000ppm以下である、光触媒を含有することを特徴とする無機硬化体。

IPC (7件)：

B01J 35/02 , C04B 28/04 , B01J 23/04 , C04B 20/10 , C04B 14/04 , A61L 9/00 , A61L 9/01

FI (7件)：

B01J35/02 J , C04B28/04 , B01J23/04 M , C04B20/10 , C04B14/04 C , A61L9/00 C , A61L9/01 B

Fターム (53件)：

4C080AA07 , 4C080BB02 , 4C080CC07 , 4C080HH05 , 4C080KK08 , 4C080LL02 , 4C080MM02 , 4C080MM05 , 4G012LA02 , 4G012LA04 , 4G012PA03 , 4G012PA11 , 4G012PA13 , 4G012PA14 , 4G012PC11 , 4G012PC13 , 4G012PD03 , 4G112LA02 , 4G112LA04 , 4G112PA03 , 4G112PA11 , 4G112PA13 , 4G112PA14 , 4G112PC11 , 4G112PC13 , 4G112PD03 , 4G169AA02 , 4G169AA08 , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA04A , 4G169BA04B , 4G169BA48A , 4G169BC01A , 4G169BC02A , 4G169BC02B , 4G169BC03A , 4G169BC03B , 4G169EA11 , 4G169EC03X , 4G169EC03Y , 4G169EC22X , 4G169EC22Y , 4G169EC28 , 4G169FC07 , 4G169HA01 , 4G169HB02 , 4G169HB03 , 4G169HC14 , 4G169HE01 , 4G169HE05 , 4G169HE06 , 4G169HE07

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平2-273514号公報
有害物質の除去剤、除去方法及び有害物質除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-341505 出願人：日本ゼオン株式会社
光触媒体およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-165836 出願人：石原産業株式会社, 藤嶋昭, 橋本和仁

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