特許
J-GLOBAL ID：200903047970902459

磁気記録ヘッド及び磁気記録再生装置

発明者：
中本 一広

中本 一広 について

, 
星屋 裕之

星屋 裕之 について

, 
石川 千明

石川 千明 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-341669
公開番号（公開出願番号）：特開2004-178656
出願日： 2002年11月26日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】100nm級以下の狭トラック幅において,読みにじみを小さくすることで,作製しやすくかつ高感度な磁気記録ヘッドを提供し,高い記録密度の磁気記録再生装置を提供する。【解決手段】上部シールド層31と,下部シールド層32と,これらの間に配置された磁気抵抗効果膜10と,磁気抵抗効果膜10に電気的に接合された一対の電極31,32とを有する。磁気抵抗効果膜10の両横に,上部シールド層31の一部からなる一対のサイドシールド層を形成し,サイドシールド層と磁気抵抗効果膜10の間隔を,上部シールド層31と下部シールド層32との間隔の2倍より狭く形成する。これによって,読みにじみ量を,上下シールド間隔とヘッド-媒体間の磁気的スペーシングとから決定されていた従来値より小さくすることが可能となる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
あらかじめ決められた間隔を隔てて形成された一対の上部および下部磁気シールド層と, 該一対の上下磁気シールド層の間に,前記上下磁気シールド層とあらかじめ決められた距離を隔てて形成された磁気抵抗効果膜と, 該磁気抵抗効果膜に電気的に接合する一対の電極とを備えており, 前記磁気抵抗効果膜のトラック幅方向両横に,一対のサイド磁気シールド層を形成し, 前記磁気抵抗効果膜による再生素子の読みにじみを前記シールド間隔と磁気スペーシングとから規定される値よりも小さくなるように前記サイド磁気シールド層と前記磁気抵抗効果膜のトラック幅方向端部との間隔を設定したことを特徴とする磁気ヘッド。
IPC (1件)：
G11B5/39
FI (1件)：
G11B5/39
Fターム (6件)：
5D034AA02 ,  5D034BA18 ,  5D034BB01 ,  5D034BB08 ,  5D034CA05 ,  5D034DA07
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM