特許
J-GLOBAL ID:200903047987474264

ポリチオフェン類

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-004779
公開番号(公開出願番号):特開2003-231739
出願日: 2003年01月10日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】【課題】 環境酸素によるドーピングを起こしにくく、溶液処理によって経済的に加工可能な半導体ポリマーを提供する。【解決手段】 下記化11の構造式を持つポリチオフェン類である。【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり(ただし、xとyとの合計は0より大きい)、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示す。
請求項(抜粋):
下記化1の構造式を持つポリチオフェン類であって、【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり、xとyとの合計は0より大きく、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示すことを特徴とするポリチオフェン類。
Fターム (5件):
4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01
引用特許:
出願人引用 (5件)
  • 米国特許第6,150,191号
  • 米国特許第6,107,117号
  • 米国特許第5,969,376号
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審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (2件)

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