特許
J-GLOBAL ID：200903047987474264

ポリチオフェン類

発明者：
ベン エス オン

ベン エス オン について

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ル ジアン

ル ジアン について

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イリアン ウー

イリアン ウー について

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ダサラオ ケイ ムルティ

ダサラオ ケイ ムルティ について


出願人/特許権者：
ゼロックス・コーポレーション

ゼロックス・コーポレーション について


代理人 (1件)： 吉田 研二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-004779
公開番号（公開出願番号）：特開2003-231739
出願日： 2003年01月10日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：
【要約】【課題】 環境酸素によるドーピングを起こしにくく、溶液処理によって経済的に加工可能な半導体ポリマーを提供する。【解決手段】 下記化11の構造式を持つポリチオフェン類である。【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり(ただし、xとyとの合計は0より大きい)、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示す。
請求項（抜粋）：
下記化1の構造式を持つポリチオフェン類であって、【化1】式中、R及びR’は側鎖であり、Aは二価結合基であり、x及びyは非置換チエニレン単位の数を示し、zは0又は1であり、xとyとの合計は0より大きく、mはセグメントの数を示し、nは重合度を示すことを特徴とするポリチオフェン類。
Fターム (5件)：
4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 米国特許第6,150,191号
  • 米国特許第6,107,117号
  • 米国特許第5,969,376号
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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