特許
J-GLOBAL ID:200903098296085370

ポリチオフェン類及びその調製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-006211
公開番号(公開出願番号):特開2003-221434
出願日: 2003年01月14日
公開日(公表日): 2003年08月05日
要約:
【要約】【課題】 環境酸素によるドーピングを起こしにくく、溶液処理によって経済的に加工可能な半導体ポリマーを提供する。【解決手段】 下記化19の構造式を持つポリチオフェン類である。【化19】式中、Rは側鎖であり、mは置換基の数であり、Aは二価結合基であり、x、y、及びzはそれぞれモノマーセグメント中における、R置換チエニレン、非置換チエニレン、及び二価結合基Aの数を示し、zは0又は1のいずれかであり、nはポリマー鎖中の繰り返しモノマーセグメントの数又は重合度を示す。
請求項(抜粋):
下記化1の構造式を持つポリチオフェン類であって、【化1】式中、Rは側鎖であり、mは置換基の数であり、Aは二価結合基であり、x、y、及びzはそれぞれモノマーセグメント中における、R置換チエニレン、非置換チエニレン、及び二価結合基Aの数を示し、zは0又は1のいずれかであり、nはポリマー鎖中の繰り返しモノマーセグメントの数又は重合度を示すことを特徴とするポリチオフェン類。
Fターム (5件):
4J032BA05 ,  4J032BB01 ,  4J032BB04 ,  4J032BC03 ,  4J032CG01
引用特許:
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
引用文献:
出願人引用 (2件)
  • The Journal of Physical Chemistry, 19950309, 第99巻第10号, 3218-3224頁
  • Synthetic Metals, 1995, 第71巻, 2085-2086頁
審査官引用 (4件)
  • The Journal of Physical Chemistry, 19950309, 第99巻第10号, 3218-3224頁
  • Synthetic Metals, 1995, 第71巻, 2085-2086頁
  • The Journal of Physical Chemistry, 19950309, 第99巻第10号, 3218-3224頁
全件表示

前のページに戻る