特許
J-GLOBAL ID:200903048051726110
モレキュラーシーブSSZ-33の調製
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 池田 幸弘
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-532400
公開番号(公開出願番号):特表2008-513335
出願日: 2005年09月12日
公開日(公表日): 2008年05月01日
要約:
結晶性モレキュラーシーブSSZ-33を、N,N,N-トリアルキル-8-アンモニウム-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン第四アンモニウムカチオンとN,N-ジアルキル-8-アミノ-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン化合物を構成成分とする混合物を用いて調製した。
請求項(抜粋):
(1)酸化ケイ素、酸化ゲルマニウム、及びそれらの混合物が、(2)酸化ホウ素か酸化ホウ素と酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化チタン、あるいは酸化鉄及びそれらの混合物、およびそれらの混合物に対しておよそ15:1より大きなモル比を持ち、そして焼成後、表IIのX線回折線を持つモレキュラーシーブを調製する方法であって、前記方法が
A.(1)酸化ケイ素、酸化ゲルマニウム、及びそれらの混合物源;(2)酸化ホウ素か酸化ホウ素と酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化チタンあるいは酸化鉄およびそれらの混合物、およびそれらの混合物源;(3)アルカリ金属かアルカリ土類金属源;(4)N,N,N-トリアルキル-8-アンモニウムトリシクロ[5.2.1.02,6]デカン第四アンモニウムカチオン、および(5)N,N-ジアルキル-8-アミノ-トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン化合物を含む水性反応混合物を形成すること;および
B.結晶が形成されるまで十分な結晶化条件下で前記水性混合物を維持すること、
を包含する方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (21件):
4G073BA01
, 4G073BA08
, 4G073BA20
, 4G073BA36
, 4G073BA56
, 4G073BA57
, 4G073BA58
, 4G073BA63
, 4G073BA64
, 4G073BB02
, 4G073BB12
, 4G073BB47
, 4G073BB48
, 4G073CZ50
, 4G073FA15
, 4G073FA17
, 4G073FB12
, 4G073FE05
, 4G073GA03
, 4G073GA06
, 4G073UA04
引用特許:
審査官引用 (7件)
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特表平5-502009
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特表平4-504561
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特表平7-540396
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引用文献:
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