特許

J-GLOBAL ID：200903048052914114

光デバイスおよびその製造方法

発明者： 蔵本 慶一 ,  中川 洋平 ,  松本 光晴 ,  伊豆 博昭 ,  平野 均 ,  林 伸彦
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-144185
公開番号（公開出願番号）：特開2005-010758
出願日： 2004年05月13日
公開日（公表日）： 2005年01月13日
要約：

【課題】 コアからの伝搬光の漏洩を低下してノイズを低減する。【解決手段】 光デバイス10は、基板21と、基板21上に設けられたコア14と、コア14周囲に形成された第一のクラッド12および第二のクラッド16とを含む。光デバイス10はさらに、基板21上に設けられ、コア14から漏れ出た光を吸収する光吸収領域18を含む。光吸収領域18は、たとえばコア14を構成する材料と同じ材料により構成される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

コアと、前記コアの周囲に形成されたクラッドと、を含む光デバイスであって、 前記クラッドは、平坦部に凹部が形成された第一のクラッドと、第一のクラッド上に形成された第二のクラッドを含み、前記コアは、第一のクラッドの凹部を埋め込むように形成され、光の伝搬方向に実質的に垂直な断面において、前記第一のクラッドの平坦部付近で狭く形成された狭窄部を含むように構成されたことを特徴とする光デバイス。

IPC (2件)：

G02B6/122 ,  G02B6/13

FI (2件)：

G02B6/12 A ,  G02B6/12 M

Fターム (8件)：

2H047KA04 ,  2H047KB10 ,  2H047LA12 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平2-131202号公報
  
• 曲がり光導波路およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-308950   出願人：三菱瓦斯化学株式会社

審査官引用 (4件)

• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-260333   出願人：日立電線株式会社
• 微細パターン形成方法、光学素子の製造方法、光学素子および光伝送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-049194   出願人：松下電器産業株式会社
• 光導波路素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-156838   出願人：三井化学株式会社
• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-232918   出願人：オムロン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 電子情報通信学会技術研究報告, 20021004, Vol.102, No.369, p.29-33 (OPE 2002-72)