特許
J-GLOBAL ID：200903028035331198

光導波路素子およびその製造方法

発明者：
塩田 剛史

塩田 剛史 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-156838
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350661
出願日： 2001年05月25日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】 工程数を増やすことなくコア材の埋め込み後の断面形状に窪みがあっても低い光伝搬損失を示す光導波路素子およびその製造方法を提供する。【解決手段】 射出成形などにより幅10μm、深さ12μmの凹溝加工を施したクラッド1を形成し、次にその溝にコア材料2としてポリイミドの前駆体である樹脂濃度15wt%ポリアミド酸溶液を溝部にスピンコートし、その後熱処理によってイミド化させる。窪み深さ12は溝部以外に形成されたコア膜厚11(2μm)よりも大きい5μmとなる。次に上部クラッドとなるポリアミド酸溶液をスピンコート等の方法でコートし、加熱イミド化させると、擬似的に幅10μm、高さ7μmのコアを有する高分子光導波路が得られる。
請求項（抜粋）：
表面に凹溝を有するクラッド部材と、凹溝および凹溝周辺を覆うように配置されたコア部材とを備え、コア部材の表面は、凹溝周辺よりも凹溝で低くなる窪みが存在し、窪み深さは、凹溝周辺でのコア部材の厚さと比べて同等もしくは大きいことを特徴とする光導波路素子。
IPC (3件)：
G02B 6/122 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (3件)：
G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M
Fターム (5件)：
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA36
引用特許：
審査官引用 (9件)
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