特許
J-GLOBAL ID：200903048074351393

オーバーレイ検出器

発明者：
ハンス バトラー

ハンス バトラー について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-382968
公開番号（公開出願番号）：特開2005-197731
出願日： 2004年12月28日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】オーバーレイを機械の性能数値として迅速にかつウェーハ上のどこであっても測定する装置を提供すること。【解決手段】この測定は、ウェーハ水準上のパターンと、ウェーハ水準上のパターンの上に投影されるパターンとの間の干渉から得られる回折模様の回折次数の振幅を測定することによって行われる。投影パターンはレチクル水準上に存在する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
オーバーレイを測定する装置であって、 少なくとも1つの第1パターンを有する第1モジュールと、 前記第1パターンに対応する第2パターンを有する第2モジュールとを備え、前記装置が前記第1パターン上に前記第2パターンの投影像を生成するように配置されており、前記装置は、前記第1パターンと前記第2パターンの前記投影像との間の干渉から得られる回折模様を生成するように配置され、前記回折模様は、振幅を有する少なくとも1つの回折次数を含み、前記装置は前記振幅を測定するための検出器をさらに備える、装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G03F9/00
FI (3件)：
H01L21/30 525R ,  G01B11/00 G ,  G03F9/00 A
Fターム (28件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC20 ,  2F065DD02 ,  2F065DD06 ,  2F065FF51 ,  2F065GG03 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL42 ,  2F065MM16 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ25 ,  2F065UU04 ,  2F065UU05 ,  2H097KA03 ,  2H097KA15 ,  2H097KA20 ,  2H097KA29 ,  2H097LA10 ,  5F046EA07 ,  5F046FC04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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