特許
J-GLOBAL ID：200903048097269333
光アイソレータおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-304902
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142558
出願日： 1996年11月15日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：
【要約】【課題】 従来の光アイソレータにおいては、ファラデ回転子の飽和磁界強度以上の外部磁場を印可するためのマグネットのサイスが大型で、光学素子を小型化してもマグネットのサイズはほとんど変わらす、すなわち光アイソレータが大型化してしまう問題点があった。【解決手段】 1以上の自己バイアス型ファラデ回転子と、1以上の偏光子からなる光アイソレータにおいて、前記自己バイアス型ファラデ回転子と、前記偏光子は、低融点ガラス、あるいは金属半田を介して固定されており、かつ前記光アイソレータの組立工程に、再着磁工程を少なくとも1回以上行う。
請求項（抜粋）：
1以上の自己バイアス型ファラデ回転子と、1以上の偏光子とから構成される光アイソレータにおいて、前記自己バイアス型ファラデ回転子および前記偏光子とは低融点ガラスあるいは金属半田を介して固定されるときに着磁工程が少なくとも1回行われることを特徴とする光アイソレータの製造方法。
引用特許：
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