特許
J-GLOBAL ID：200903048178001815

気化器及び成膜装置

発明者：
松本 賢治

松本 賢治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 三枝 弘明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-343547
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109349
出願日： 2003年10月01日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】 微細なミストが気化室の内部を飛行する間に溶媒が揮発してパーティクルとなる状況を回避し、微細なミストを確実に気化させることのできる環境を作り出すことにより、パーティクルの生成を抑制することのできる気化器を提供する。【解決手段】 本発明の気化器210は、原料を溶媒に溶解してなる溶液原料をミスト状に噴霧する噴霧手段211と、噴霧された溶液原料を気化するための加熱された気化面を備えた気化室212と、気化室にて生成された原料ガスを導出するガス導出口213とを有し、気化面は、噴霧手段による噴霧方向に対向するように配置された第1気化面212aと、第1気化面に沿って対向配置された第2気化面212bとを有し、第1気化面と第2気化面との平均間隔が噴霧手段による噴霧位置とガス導出口との間の第1気化面及び第2気化面に沿った距離よりも小さいことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
原料を溶媒に溶解してなる溶液原料をミスト状に噴霧する噴霧手段と、噴霧された前記溶液原料を気化するための加熱された気化面を備えた気化室と、該気化室にて生成された原料ガスを導出するガス導出口とを有する気化器において、 前記気化面は、前記噴霧手段による噴霧方向に対向するように配置された第1気化面と、該第1気化面に沿って対向配置された第2気化面とを有し、 前記第1気化面と前記第2気化面との平均間隔が前記噴霧手段による噴霧位置と前記ガス導出口との間の前記第1気化面及び前記第2気化面に沿った距離よりも小さいことを特徴とする気化器。
IPC (2件)：
H01L21/31 ,  C23C16/448
FI (2件)：
H01L21/31 F ,  C23C16/448
Fターム (8件)：
4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030EA06 ,  5F045AB31 ,  5F045BB03 ,  5F045BB15 ,  5F045EE02
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238315   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
審査官引用 (4件)
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