特許

J-GLOBAL ID：200903048316889067

臭素低含有塩素の製造方法

発明者： 刑部 次功 ,  土屋 泰志 ,  多田 真由子
出願人/特許権者： 鶴見曹達株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-248645
公開番号（公開出願番号）：特開2006-063410
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：

【課題】 食塩等の塩水の電解工程において、電解槽の陽極室より発生する塩素ガスについて、並びに電解槽出戻り塩水中より回収される塩素についても、臭素濃度を低減した塩素ガスを得る方法の提供。【解決手段】 塩化アルカリ水溶液を、pH3以下で滞留させて同水溶液中の臭素濃度を20g/m3以下に低減させた後、電解に供することを特徴とする、臭素低含有塩素の製造方法。【選択図】 なし。

請求項（抜粋）：

塩化アルカリ水溶液を、pH3以下で滞留させて同水溶液中の臭素濃度を20g/m3以下に低減させた後、電解に供することを特徴とする、臭素低含有塩素の製造方法。

IPC (2件)：

C25B 1/26 ,  C01B 7/09

FI (2件)：

C25B1/26 A ,  C01B7/09 A

Fターム (4件)：

4K021AA03 ,  4K021BA03 ,  4K021BB02 ,  4K021BC09

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭58-208104号公報
  
• 塩水中の塩素酸塩の増加防止方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-266569   出願人：旭化成工業株式会社
• 食品用塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-058183   出願人：鳴門塩業株式会社