特許

J-GLOBAL ID：200903048349601964

X線反射率測定及び蛍光X線測定による金属多層膜の構造解析方法及びそれに用いる標準試料及び装置

発明者： 原 嘉昭 ,  北出 康博 ,  渦巻 拓也 ,  清水 豊
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-268750
公開番号（公開出願番号）：特開平11-108862
出願日： 1997年10月01日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 金属多層膜の構造解析を正確かつ短時間で行える方法及び装置を提供する。【解決手段】 標準試料についてX線反射率測定と蛍光X線測定を行って、蛍光X線測定装置の薄膜に対する感度係数を決定する(ステップS1〜4)。感度係数が補正された蛍光X線測定装置により未知試料を測定し(ステップS5)、同一未知試料をX線反射率測定を行う(ステップS6)。X線反射率測定の解析において、蛍光X線測定で得た未知試料の各層の付着量と矛盾しない構造パラメータを選択することにより、未知試料の構造を決定する(ステップS7,8)。

請求項（抜粋）：

蛍光X線測定装置により未知試料を測定する段階と、この蛍光X線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出する段階と、X線反射率測定により前記未知試料を測定する段階と、このX線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光X線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定する段階とを具備するX線反射率測定及び蛍光X線測定による金属多層膜の構造解析方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 ,  G01B 21/20 ,  G01N 23/20

FI (3件)：

G01N 23/223 ,  G01B 21/20 Z ,  G01N 23/20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 膜厚測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-125947   出願人：株式会社テクノス研究所
• X線反射率解析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-106443   出願人：株式会社日立製作所, 理学電機株式会社