特許

J-GLOBAL ID：200903048434177187

処理装置用ダブル二重スロット式ロードロック

発明者： クリタ, シンイチ ,  ブロニガン, ウェンデル, ティ.
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  山田 行一 ,  鈴木 康仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-527550
公開番号（公開出願番号）：特表2004-523880
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

ここで提供されるのは、基板処理システムであり、カセットロード用ステーション;ロードロックチャンバ;中央に配置された移送用チャンバ;上記移送用チャンバの周囲付近に置かれた一以上の処理チャンバを備える。ロードロックチャンバは、同じ場所に構成されたダブル二重スロット式ロードロックを備え、このようなシステムは、半導体製造の為の処理基板用に使用されてもよい。

請求項（抜粋）：

基板処理システムであって、 カセットロード用ステーションと; 同一場所に構成されたダブル二重スロット式ロードロックを備えるロードロックチャンバと; 中央に置かれた移送用チャンバと; 前記移送用チャンバの周囲の近くに置かれた一以上の処理用チャンバと; を備える、前記基板処理システム。

IPC (2件)：

H01L21/68 ,  H01L21/02

FI (2件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/02 Z

Fターム (16件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031MA04 ,  5F031MA07 ,  5F031MA11 ,  5F031MA30 ,  5F031PA02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-336464   出願人：東京エレクトロン株式会社
• チャンバ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-001128   出願人：国際電気株式会社