特許
J-GLOBAL ID：200903096569988414

処理システム

発明者：
立山 清久

立山 清久 について

, 
荒木 真一郎

荒木 真一郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大森 純一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-336464
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150395
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【課題】 大気系の領域と真空系の領域との間で被処理体を円滑に受け渡すことができる処理システムの提供。【解決手段】 搬送路10側と処理室203、204側との間に、多段にロードロック室201a〜201dを配置して構成される。そして、各ロードロック室201a〜201dは、搬送路10側との間でガラス基板Gの受け渡しをする場合には、その中を大気雰囲気とし、ガラス基板Gを処理室203、204側へ搬送する場合には、その中を真空雰囲気とするように切り替えを行う。
請求項（抜粋）：
真空系の第1の領域と、大気系の第2の領域と、前記第1の領域と前記第2の領域との間に配置され、大気雰囲気と真空雰囲気との入れ替えが可能で、前記第1の領域と前記第2の領域との間で被処理体の受け渡しを行うための受け渡し部とを具備することを特徴とする処理システム。
IPC (4件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/302 B
Fターム (34件)：
5F004AA16 ,  5F004BC05 ,  5F004BC06 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA09 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA02 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F045AF07 ,  5F045BB08 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB01 ,  5F045EB08 ,  5F045EB11 ,  5F045EN01 ,  5F045EN04 ,  5F045HA02 ,  5F045HA25 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM