特許
J-GLOBAL ID:200903048495054380
芳香族ポリカーボネートの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-169369
公開番号(公開出願番号):特開2002-363276
出願日: 2001年06月05日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 エステル交換法により芳香族ポリカーボネートを製造するにあたり色相に優れ、生産性に優れた製造方法を提供すること。【解決手段】 製造に使用している設備を以下の工程よりなる洗浄方法で洗浄する。(1)反応設備に残存する芳香族ポリカーボネートをカーボネート結合含有低分子量化合物を用いて解重合せしめ、芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量を8000以下に低減させる工程。(2)粘度平均分子量が低減した芳香族ポリカーボネートを反応設備から排出する工程。(3)反応設備に芳香族炭酸ジエステルを受け入れ200°C以上の温度で不活性ガス雰囲気下で反応設備を洗浄する工程。(4)該洗浄液を排出した後、必要に応じ、反応設備を真空下で乾燥する工程。
請求項(抜粋):
芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルをアルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物、ならびに含窒素塩基性化合物を触媒とするエステル交換反応により反応せしめ、芳香族ポリカーボネートを製造する方法において、下記の工程よりなる洗浄方法で洗浄した製造設備を使用する芳香族ポリカーボネートの製造方法。(1)製造設備に残存する芳香族ポリカーボネートを、カーボネート結合含有低分子化合物を用いて解重合せしめ、芳香族ポリカーボネートの粘度平均分子量を8000以下に低減させる工程。(2)粘度平均分子量が低減した芳香族ポリカーボネートを製造設備から排出する工程。(3)製造設備に炭酸ジエステルを受け入れ、200°C以上の温度、不活性ガス雰囲気下で製造設備を洗浄する工程。(4)洗浄に用いた炭酸ジエステルを排出した後、必要に応じ、製造設備を真空下で乾燥する工程。
Fターム (89件):
4J029AA10
, 4J029AB04
, 4J029AC01
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, 4J029LB07
, 4J029LB08
引用特許:
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