特許
J-GLOBAL ID：200903048525600929
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-174531
公開番号（公開出願番号）：特開2009-014864
出願日： 2007年07月02日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：
【課題】露光前にパターンの焼付け位置のずれを適切に評価する。【解決手段】各アライメントマークの位置を検出して、マスクと基板との位置合わせを行う(ステップ301)。位置合わせ後の各アライメントマークの位置を検出し(ステップ302)、位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置と位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置とから、ショットオフセット成分を求める(ステップ303)。位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置をショットオフセット成分により座標変換し(ステップ304)、マスク又は基板の変形成分を求める(ステップ305)。変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め(ステップ306)、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する(ステップ307)。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
プロキシミティ方式を用いた露光装置であって、
マスク及び基板が複数のアライメントマークを有し、
マスクのアライメントマーク及び基板のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得手段と、
前記複数の画像取得手段が出力した画像信号を処理して、各アライメントマークの位置を検出する画像信号処理手段と、
マスクと基板との位置合わせを行う位置合わせ手段と、
前記画像信号処理手段の検出結果に基づいて、前記位置合わせ手段を制御し、位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置と位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置とから、ショットオフセット成分を求め、位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置をショットオフセット成分により座標変換し、位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置と座標変換後の基板のアライメントマークの位置とから、マスク又は基板の変形成分を求め、変形成分及びショットオフセット成分を除外した基板のアライメントマークの位置を求め、求めた位置が位置合わせ後のマスクのアライメントマークの位置から許容範囲内にあるか確認する制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 9/00
, G03F 7/20
, G02F 1/136
G03F9/00 Z
, G03F7/20 501
, G02F1/1368
2H092JA24
, 2H092MA16
, 2H092NA25
, 2H092PA08
, 2H097GA45
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097KA40
, 2H097LA12
