特許
J-GLOBAL ID：200903048644192421
微細パターン寸法画像計測装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高矢 諭 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-005338
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194734
出願日： 1995年01月17日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 高能率、高精度で微細パターンの寸法計測と公差判定を行う。【構成】 現物(リードフレーム)の微細パターンをディジタル画像として入力し、画像入力した撮り込み領域全体のラスタデータをベクタデータに変換して現物対応CADデータを作成し、そのCADデータを基に微細パターンの寸法を画像計測する微細パターン寸法画像計測装置であり、装置上で設計パーターン対応するCADデータに対して公差範囲の領域分(外側A、内側B)の図形データを付加すると共に、該CADデータに対して画像入力したリードフレーム全体像に当る現物対応CADデータCを位置合せし、表示する。
請求項（抜粋）：
現物試料の微細パターンをディジタル画像として撮り込む画像入力手段と、現物試料の撮り込み領域全体を画像入力し、そのラスタデータをベクタデータに変換して現物対応CADデータを作成するラスタ・ベクタ変換手段と、作成された現物対応CADデータを基に微細パターンの寸法を画像計測する計測手段と、を備えていることを特徴とする微細パターン寸法画像計測装置。
IPC (3件)：
G06F 17/50
, G01B 11/24
, G06T 7/00
G06F 15/60 666 C
, G06F 15/62 405 A
