超音波処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：原謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359776
公開番号（公開出願番号）：特開2001-170584
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
要約：

【要約】【課題】超音波の振動素子の安定的な動作を行うことができる超音波処理装置を提供すること。被処理体に対して均一でムラのない超音波処理を行うことが可能な超音波処理装置を提供すること。【解決手段】本発明の超音波処理装置では、ガラス基板11に下面用洗浄液を供給する下部洗浄液供給ノズル14a・14b内において、超音波発振素子17...が、ガラス基板11の搬送方向に垂直な平面上で一つの連続形状である投影領域21を形成すべく配置され、該投影領域21の幅長D1は、被処理体であるガラス基板11の幅長D2以上となっている。さらに、超音波発振素子17...の直下流側に位置する液体の流通経路、すなわち、下部洗浄液供給ノズル14a・b内面が上流側から下流側にかけて上方に伸びている。

請求項（抜粋）：

液体が、その流通方向に流動される流通経路と、上記流通経路内に設けられ、上記液体に対し超音波を照射する複数の振動素子とを有してなり、上記複数の振動素子を基準として所定方向に相対移動される被処理体の超音波被処理領域に対し、上記流通経路の端部に設けられた少なくとも一つの液体供給口より超音波が照射された上記液体を供給する液体供給手段が設けられた超音波処理装置において、上記複数の振動素子は、これら振動素子全てを上記所定方向に垂直な平面に投影して得られる投影領域Aが一つの連続形状となるとともに、該投影領域Aの幅長が、選択される一つの振動素子を上記平面に投影して得られる投影領域Bの幅長より大きく、かつ、上記超音波被処理領域の幅長と同等以上となるように配置されるとともに、上記振動素子それぞれに対応した液体供給口の幅長は、それが対応する振動素子全てを上記平面に投影して得られる投影領域Cの最大広がり幅と同等以上となるように形成されており、さらに、上記複数の振動素子の直下流側に位置する液体の流通経路が、上流側から下流側にかけて、水平方向から上方の間のいずれかの方向に延びていることを特徴とする超音波処理装置。

IPC (6件)：

B08B 3/12 , G03F 7/26 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648 , H01L 21/306 , H01L 21/027

FI (6件)：

B08B 3/12 D , G03F 7/26 , H01L 21/304 643 D , H01L 21/304 648 Z , H01L 21/306 J , H01L 21/30 572 B

Fターム (27件)：

2H096AA00 , 2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096GA17 , 2H096GA18 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 3B201AA02 , 3B201AB14 , 3B201BB24 , 3B201BB32 , 3B201BB33 , 3B201BB62 , 3B201BB82 , 3B201BB84 , 3B201BB85 , 3B201BB92 , 5F043CC16 , 5F043EE05 , 5F043EE07 , 5F043EE10 , 5F043EE35 , 5F043EE36 , 5F046MA03 , 5F046MA07 , 5F046MA10

引用特許：

審査官引用 (5件)

超音波洗浄方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-117802 出願人：凸版印刷株式会社
超音波洗浄方式及び超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-283586 出願人：株式会社国際電気エルテック, 株式会社渡邊商行
特開昭54-056255

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