特許

J-GLOBAL ID：200903048686356513

リソグラフィ装置、偏光特性を決定する方法

発明者： マルクス アドリアヌス ファン デ ケルクホフ ,  ウィルヘルムス ペトルス デ ボアイユ ,  ヘンドリクス ロベルトゥス マリー ファン グレーフェンブロエク ,  ミケル フランソワ フーベルト クラーッセン ,  ハイコ ヴィクトール コック ,  マーティーン ゲラルド ドミニク ヴェレンス ,  タムモ ウィッテルディユク ,  ヴィルヘルムス ヤコブス マリア ローイヤッケルス
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-048306
公開番号（公開出願番号）：特開2006-237617
出願日： 2006年02月24日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の偏光特性を求める方法を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置は、照明系ILと支持体と基板テーブルと投影系PSと検出器14とを含む。この装置は、4分の1波長板などの調整可能な偏光変化素子10と、直線偏光子などの偏光アナライザ12とをさらに含み、偏光変化素子及び偏光アナライザはパターン形成機器が支持体によって保持される位置のビーム経路内に整列配置される。検出器14を使用して、偏光変化素子10の互いに異なる回転向きに対し強度測定を行うことにより、パターン形成機器位置の放射偏光状態の情報を得ることができる。偏光アナライザ12が投影系PSより前に位置するので、検出器14が基板高さなど、投影系PSより後に位置することが測定に影響を及ぼさない。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、 放射ビームを調整するように構成された照明系と、 パターン形成された放射ビームを形成するために、前記放射ビームの断面内にパターンを付与することが可能なパターン形成機器を支持するように構成された支持体と、 基板を保持するように構成された基板テーブルと、 前記基板の目標部分上に、前記パターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影系と、 放射が前記投影系を通り抜けた後にその放射の強度を測定する検出器と 調整可能な偏光変化素子と、 偏光アナライザと を含み、 前記偏光変化素子及び前記偏光アナライザが、前記パターン形成機器が前記支持体によって支持される位置の放射ビーム経路内に整列配置されるリソグラフィ装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  H01L21/30 516C

Fターム (5件)：

5F046CB10 ,  5F046CB11 ,  5F046CB15 ,  5F046CB25 ,  5F046DA01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光学系による偏光状態への影響を決定する方法及び装置と、分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-279852   出願人：カールツァイスエスエムテーアーゲー
• 露光装置、露光方法、および偏光状態測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-168037   出願人：株式会社ニコン
• 露光装置及び露光装置の光学系のミュラー行列を測定する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-348131   出願人：株式会社東芝