特許

J-GLOBAL ID：200903048725856189

ハーフトーン位相シフトフオトマスク

発明者： 宮下裕之 ,  石北幸子 ,  三上豪一
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287832
公開番号（公開出願番号）：特開平5-127361
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】 構造をさらに単純化し、製造をより容易化したハーフトーン位相シフトフォトマスク。【構成】 透明基板10と、その表面に所定のパターンに従って設けられた均一組成材料からなるハーフトーン遮光層兼位相シフト層11とからなり、ハーフトーン遮光層兼位相シフト層11は、使用波長をλ、その屈折率をnとするとき、膜厚dが、ほぼd=λ/{2(n-1)}又はその奇数倍になるように設定され、また、その透過率がほぼ5〜30%の範囲になるように構成されている。

請求項（抜粋）：

透明基板と、その表面に所定のパターンに従って設けられた均一組成材料からなるハーフトーン遮光層兼位相シフト層とからなり、該ハーフトーン遮光層兼位相シフト層は、使用波長をλ、その屈折率をnとするとき、膜厚dが、ほぼd=λ/{2(n-1)}又はその奇数倍になるように設定され、また、その透過率がほぼ5〜30%の範囲になるように構成されていることを特徴とするハーフトーン位相シフトフォトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 移相マスクおよびマスキング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-241390   出願人：モトローラ・インコーポレイテッド
• フオトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-152084   出願人：日本電気株式会社
• 特開平4-136854