特許
J-GLOBAL ID:200903048734578582

球状シリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 足立 勉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-350043
公開番号(公開出願番号):特開2000-169134
出願日: 1998年12月09日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 分級等を行わなくても、比較的粒子径の揃った球状シリカを得ることができる球状シリカの製造方法を提供すること。【解決手段】 混合槽15内のシリカゾルをノズル部17へ供給し、その下方にある回収槽19へと滴下する。その際、ノズル部17内に満たされるシリカゾルに対して、ホーン25を介して振動子31からの超音波振動が加えられる。この超音波振動により、ノズル部17から流出するシリカゾルは、ほぼ等間隔に寸断され、同体積の微小液滴となって回収槽19へと落下する。シリカゾルは、pHを調節してゲル化時間がコントロールされており、ノズル部17から流出した後、回収槽19へ到達するまでの間にゲル化して球状シリカとなる。
請求項(抜粋):
一定流量のシリカゾルをノズルから流出させつつ、前記ノズル内のシリカゾルに一定周波数および一定振幅の振動を与えることによって、前記ノズルから流出するシリカゾルを液滴化し、その液滴化によって略球状となるシリカゾルをゲル化させて粒子化することを特徴とする球状シリカの製造方法。
IPC (4件):
C01B 33/152 ,  B01J 2/02 ,  B01J 2/18 ,  B06B 3/00
FI (4件):
C01B 33/152 A ,  B01J 2/02 Z ,  B01J 2/18 ,  B06B 3/00
Fターム (21件):
4G072AA28 ,  4G072BB07 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH18 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ13 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM01 ,  4G072MM02 ,  4G072PP01 ,  4G072PP03 ,  4G072QQ01 ,  4G072RR06 ,  5D107AA04 ,  5D107AA07 ,  5D107BB01 ,  5D107BB20 ,  5D107FF03 ,  5D107FF08
引用特許:
審査官引用 (8件)
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引用文献:
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