特許
J-GLOBAL ID:200903048741146132
吸収塔及びその運用法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松永 孝義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-343281
公開番号(公開出願番号):特開2001-157810
出願日: 1999年12月02日
公開日(公表日): 2001年06月12日
要約:
【要約】【課題】 脱硫性能を従来技術と同等に維持しながら、大容量のガス処理が可能で、しかも容量のコンパクト化と低コスト化とランニングコストの低減が図れる吸収塔とその運用方法を提供すること。【解決手段】 吸収液を微粒化器から噴霧して発生する液滴と被処理ガスを接触させる吸収塔内において、被処理ガス流速Vg、微粒化器から噴霧する吸収液の噴霧速度Vs、噴霧液滴の平均粒径Dp、被処理ガスの密度ρg、微粒化器からの吸収液の噴霧角θで被処理ガス流れに噴霧し、液滴基準の被処理ガスの相対速度Vrとなる条件で、抗力F(F=ρg×Vr2×Dp)と吸収液の表面張力σと液滴の終端速度Vtとの間にVt≧F≧7σが成立するように、Vg、Vs、Vr、θ、Dp、σを設定する吸収塔の運用法である。
請求項(抜粋):
吸収液を微粒化器から噴霧して発生する液滴と被処理ガスを接触させる吸収塔内において、被処理ガス流速Vg、噴霧液滴の平均粒径Dp、被処理ガスの密度ρg、微粒化器からのガス流れ方向に対する吸収液の噴霧角θで被処理ガス流れに噴霧し、液滴基準の被処理ガスの相対速度Vrとなる条件で、次式で表される抗力FF=ρg×Vr2×Dpと吸収液の表面張力σと液滴の終端速度Vtとの間に次の関係Vt≧F≧7σが成立するように、被処理ガス流速Vg、液滴基準の被処理ガスの相対速度Vr、吸収液の噴霧角θ、噴霧液滴の平均粒径Dp、吸収液の表面張力σを設定したことを特徴とする吸収塔の運用法。
IPC (4件):
B01D 53/18
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/50
, B01D 53/77
FI (4件):
B01D 53/18 E
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 125 E
, B01D 53/34 125 Q
Fターム (40件):
4D002AA02
, 4D002AA12
, 4D002AC01
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002BA12
, 4D002BA13
, 4D002BA14
, 4D002BA16
, 4D002CA01
, 4D002CA13
, 4D002DA05
, 4D002DA16
, 4D002EA02
, 4D002FA03
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002GB02
, 4D002GB03
, 4D002GB04
, 4D002GB12
, 4D002GB20
, 4D002HA08
, 4D020AA05
, 4D020AA06
, 4D020AA09
, 4D020BA02
, 4D020BA09
, 4D020BB05
, 4D020CB27
, 4D020CC01
, 4D020CC06
, 4D020DA01
, 4D020DA03
, 4D020DB01
, 4D020DB05
, 4D020DB10
, 4D020DB20
引用特許: