特許

J-GLOBAL ID：200903048823431080

ハードディスク基板用研磨液組成物

発明者： 藤井 滋夫 ,  末永 憲一
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-370535
公開番号（公開出願番号）：特開2007-168034
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：

【課題】酸化アルミニウム粒子を砥粒として含有する研磨液組成物であって、ハードディスク基板の製造において、酸化アルミニウム粒子の基板への突き刺さりを低減し得る研磨液組成物を提供すること。【解決手段】酸化アルミニウム粒子と水とを含有してなるハードディスク基板用研磨液組成物であって、酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が0.1〜0.7μmであり、酸化アルミニウム粒子中における粒子径が1μm以上の粒子の含有量が0.2重量%以下である、ハードディスク基板用研磨液組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸化アルミニウム粒子と水とを含有してなるハードディスク基板用研磨液組成物であって、酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が0.1〜0.7μmであり、酸化アルミニウム粒子中における粒子径が1μm以上の粒子の含有量が0.2重量%以下である、ハードディスク基板用研磨液組成物。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  C09K 3/14 ,  G11B 5/84

FI (3件)：

B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  G11B5/84 A

Fターム (10件)：

3C058AA07 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA02 ,  5D112GA14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 研磨剤スラリーおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-198110   出願人：株式会社岡本工作機械製作所
• 水性分散体と水性分散体中の粗大粒子の測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-191443   出願人：ジェイエスアール株式会社

審査官引用 (4件)

• 磁気ディスク基板研磨用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-153326   出願人：昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-270150   出願人：花王株式会社
• 半導体集積回路装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-145379   出願人：株式会社日立製作所
• 研磨剤スラリーおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-198110   出願人：株式会社岡本工作機械製作所