特許
J-GLOBAL ID:200903068445080232
研磨液組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-270150
公開番号(公開出願番号):特開2005-023266
出願日: 2003年07月01日
公開日(公表日): 2005年01月27日
要約:
【課題】 高い研磨速度を持ち、被研磨基板のうねり低減可能な研磨液組成物、また、該研磨液組成物を用いた被研磨基板のうねり低減方法、及び該研磨液組成物を用い、うねりを低減させた高品質の基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 α-アルミナ、中間アルミナ、酸化剤及び水を含有する研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて、被研磨基板のうねりを低減する方法、並びに前記研磨液組成物を用いて、被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
α-アルミナ、中間アルミナ、酸化剤及び水を含有する研磨液組成物。
IPC (6件):
C09K3/14
, B24B37/00
, C09K13/00
, G11B5/84
, G11B7/26
, G11B11/105
FI (7件):
C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
, B24B37/00 H
, C09K13/00
, G11B5/84 A
, G11B7/26
, G11B11/105 546E
Fターム (12件):
3C058AA07
, 3C058CB03
, 3C058DA02
, 3C058DA17
, 5D075GG06
, 5D075GG16
, 5D112AA02
, 5D112BA06
, 5D112GA14
, 5D121AA02
, 5D121GG22
, 5D121GG28
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平3-115383号公報
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混成研磨用スラリー
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-077989
出願人:プラクスエアーエスティーテクノロジーインコーポレーテッド
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-133650
出願人:花王株式会社
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-226322
出願人:花王株式会社
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審査官引用 (7件)
-
改良研磨スラリー及びその使用方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願平9-515279
出願人:ローデルインコーポレイテッド
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-219605
出願人:花王株式会社
-
研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-294875
出願人:フジミアメリカインコーポレーテッド
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-384510
出願人:花王株式会社
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-133650
出願人:花王株式会社
-
研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-218673
出願人:花王株式会社
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研磨用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-315059
出願人:昭和電工株式会社, 山口精研工業株式会社
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