特許
J-GLOBAL ID:200903048855454147

CNT成長用基板及びCNTの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 畠山 文夫 ,  小林 かおる
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-298517
公開番号(公開出願番号):特開2009-119414
出願日: 2007年11月16日
公開日(公表日): 2009年06月04日
要約:
【課題】相対的に長さの長いCNTを連続成長させることが可能なCNT成長用基板及びこれを用いたCNTの製造方法を提供すること。【解決手段】ガス透過性を有する陽極酸化アルミナ膜12と、陽極酸化アルミナ膜12の表面に形成されたガス透過性を有する多孔質保護層16と、多孔質保護層16の上に担持されたCNT成長用触媒14とを備えたCNT成長用基板20、及び、このようなCNT成長用基板20の表面に炭素源を含む原料ガスを供給し、CNT成長用基板20の表面にCNT30を成長させる成長工程を備えたCNTの製造方法。CNT成長用基板は、陽極酸化アルミナ膜12を支持する多孔質基材22をさらに備えているものが好ましい。また、成長工程は、CNT成長用基板20のCNT成長用触媒14の担持面から裏面に向かって原料ガスを供給するものが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ガス透過性を有する陽極酸化アルミナ膜と、 前記陽極酸化アルミナ膜の表面に形成されたガス透過性を有する多孔質保護層と、 前記多孔質保護層の上に担持されたCNT成長用触媒と を備えたCNT成長用基板。
IPC (2件):
B01J 23/745 ,  C01B 31/02
FI (2件):
B01J23/74 301M ,  C01B31/02 101F
Fターム (35件):
4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD20 ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146AD30 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC28 ,  4G146BC33B ,  4G146BC37B ,  4G146BC38B ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01A ,  4G169BA01B ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BB06B ,  4G169BC50B ,  4G169BC66B ,  4G169CB81 ,  4G169DA05 ,  4G169EA01Y ,  4G169EB19 ,  4G169EE01 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB06 ,  4G169FB11 ,  4G169FB29
引用特許:
出願人引用 (2件)

前のページに戻る