特許
J-GLOBAL ID：200903048936386081

プラズマ処理装置及び方法

発明者：
石井 信雄

石井 信雄 について

, 
八坂 保能

八坂 保能 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

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八坂 保能

八坂 保能 について


代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-010781
公開番号（公開出願番号）：特開2002-158216
出願日： 2001年01月18日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：
【要約】【課題】 高周波の電磁界により生成されたプラズマの分布を改善する。【解決手段】 放射面31に形成された複数のスロット34より処理容器11内に電磁界を放射するスロットアンテナ30を用いたプラズマ処理装置であって、スロットアンテナ30が、その放射面31の法線方向Zに対して傾斜する方向に電磁界を放射する。
請求項（抜粋）：
処理容器内に収容され被処理体を配置する載置面を有する載置台と、この載置台の載置面に対向配置され放射面に形成された複数のスロットより前記処理容器内に電磁界を放射するスロットアンテナとを備えたプラズマ処理装置において、前記スロットアンテナは、前記放射面の法線方向に対して傾斜する方向に前記電磁界を放射することを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (5件)：
B01J 19/08 H ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (38件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BC01 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA24 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC30 ,  4G075FC15 ,  4K030FA03 ,  4K030JA14 ,  4K030KA10 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB32 ,  5F004DA01 ,  5F004DA23 ,  5F045AA09 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC15 ,  5F045AD05 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045BB15 ,  5F045DP04 ,  5F045EB02 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EJ01
引用特許：
審査官引用 (16件)
  • プラズマ装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-176443   出願人：株式会社東芝
  • 偏波共用型平板アンテナ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-106269   出願人：トヨタ自動車株式会社
  • 特開平3-191973
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