特許
J-GLOBAL ID：200903049134033350

インクジェットプリントヘッドの製造方法

発明者：
朴 炳夏

朴 炳夏 について

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権 明鐘

権 明鐘 について

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河 龍雄

河 龍雄 について

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朴 性俊

朴 性俊 について


出願人/特許権者：
三星電子株式会社

三星電子株式会社 について


代理人 (2件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-280231
公開番号（公開出願番号）：特開2005-104156
出願日： 2004年09月27日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】 インク流路の形状及び寸法の制御を容易にし,インク流路の均一性を良くすることにより,インクジェットプリントヘッドのインク吐出し性能,及び耐久性を向上できる,インクジェットプリントヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 基板110上に,インクを加熱するインク加熱要素を形成する段階と,基板110上にネガティブフォトレジストで流路形成層120を形成する段階と,ポジティブフォトレジストを復数回用い,流路形成層120に取り囲まれた空間内に上面が平坦な犠牲層Sを形成する段階と,流路形成層120及び犠牲層S上にネガティブフォトレジストでノズル層130を形成する段階と,基板110を貫通してインク供給口151を形成する段階と,犠牲層Sを除去する段階と,を備えることを特徴とする。【選択図】 図5Q
請求項（抜粋）：
基板上に,インクを加熱するインク加熱要素を形成する段階と, 前記基板上にネガティブフォトレジストパターンを用い,インク流路を成す流路形成層を形成する段階と, 前記流路形成層が形成された前記基板上に,ポジティブフォトレジストパターンを複数回用い,前記流路形成層に取り囲まれた空間内に上面が平坦な犠牲層を形成する段階と, 前記流路形成層及び前記犠牲層上にネガティブフォトレジストパターンを用い,ノズルを成すノズル層を形成する段階と, 前記犠牲層下部の前記基板を貫通してインク供給口を形成する段階と, 前記犠牲層を除去する段階と, を含むことを特徴とするインクジェットプリントヘッドの製造方法。
IPC (1件)：
B41J2/16
FI (1件)：
B41J3/04 103H
Fターム (10件)：
2C057AF65 ,  2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG42 ,  2C057AG46 ,  2C057AP02 ,  2C057AP32 ,  2C057AP33 ,  2C057AP47 ,  2C057AP57
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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