特許
J-GLOBAL ID：200903049215765622
研磨スラリーを連続的に供給し、調整するための装置および方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外11名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-104262
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308957
出願日： 2000年04月06日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、スラリーを使用する研磨装置と一緒に使用するための連続スラリー供給システムを提供する。【解決手段】 上記連続スラリー供給システムは、混合チャンバ、スラリー成分タンク、化学的パラメータ・センサ・システム、および制御システムを備える。各スラリー成分タンクは、異なるスラリー成分を含み、混合チャンバに、必要な流量で、異なるスラリー成分を供給するために、混合チャンバと流体で連絡している。化学的パラメータ・センサ・システムは、混合チャンバに接続していて、スラリーの化学的特性を感知するように構成されている。制御システムは、化学的パラメータ・センサ・システムに接続していて、スラリー成分の中の少なくとも一つを混合チャンバに所与の流量で導入するように構成されている。
請求項（抜粋）：
スラリーを使用する研磨装置と一緒に使用するための、連続スラリー供給システムであって、混合チャンバと、それぞれが、異なるスラリー成分を含み、前記混合チャンバに、必要な流量で、異なるスラリー成分を供給するために、前記混合チャンバと流体で連絡している、スラリー成分タンクと、前記混合チャンバに接続していて、前記スラリーの化学的特性を感知するように構成されている化学的パラメータ・センサ・システムと、前記化学的パラメータ・センサ・システムおよび前記混合チャンバに接続していて、前記スラリー成分の中の少なくとも一つを所与の流量で導入するように構成されている制御システムとを備える連続スラリー供給システム。
IPC (4件)：
B24B 37/00
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
B24B 37/00 K
, B24B 37/00 H
, B24B 57/02
, H01L 21/304 622 D
, H01L 21/304 622 E
