特許
J-GLOBAL ID：200903049216130884
描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-312904
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135413
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 ミックスアンドマッチ法における重ね合わせ精度を向上させる。【解決手段】 光投影露光により試料上に形成される第1のパターンと整合するように第2のパターンをスキャナで描画するために、第1のパターンの理想パターンに対するずれを示す歪みマップを作成し、第2のパターンの描画情報を該マップに示されたずれ情報に基づき補正しながら前記スキャナで描画する描画方法において、前記歪みマップを、前記光投影露光を行なう装置の1台または1機種ごとに用意された標準マップに対し、前記第1のパターンの形状に応じた補正を施して作成する。
請求項（抜粋）：
光投影露光により試料上に形成される第1のパターンと整合するように第2のパターンをスキャナで描画するために、第1のパターンの理想パターンに対するずれを示す歪みマップを作成し、第2のパターンの描画情報を該マップに示されたずれ情報に基づき補正しながら前記スキャナで描画する描画方法において、前記歪みマップを、前記光投影露光を行なう装置の1台または1機種ごとに用意された標準マップに対し、前記第1のパターンの形状に応じた補正を施して作成することを特徴とする描画方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 A
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 541 B
