特許

J-GLOBAL ID：200903049238251057

感光性組成物

発明者： 斎藤 聡 ,  木原 尚子 ,  後河内 透
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-023935
公開番号（公開出願番号）：特開平11-282167
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：

【要約】【課題】 電子線露光においても、断面矩形でかつ一定の寸法精度を有するレジストパターンを、高い感度で形成可能なポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性基の一部または全部が酸により分解し得る置換基で保護されたアルカリ可溶性樹脂と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物と、酸触媒の作用により水を発生する化合物とを含有するポジ型感光性組成物である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性基の一部または全部が酸により分解し得る置換基で保護されたアルカリ可溶性樹脂と、化学放射線の照射により酸を発生する化合物と、酸触媒の作用により水を発生する化合物とを含有するポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050218   出願人：株式会社東芝
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-323191   出願人：信越化学工業株式会社
• 放射線感応性組成物及びそれを用いたパタン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-249071   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 特開平4-165359