特許
J-GLOBAL ID：200903049244791365
フォトマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-340687
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186628
出願日： 1996年12月20日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：
【要約】【課題】 遮光膜であるクロム膜厚をフォトマスク基板上において平坦にして、膜厚を均一にしないと遮光膜の透過率を均一にすることができず、コントラストが悪くなる。【解決手段】 透明基板1の一部を選択的にエッチングし、溝4を形成する。次に、該溝4が形成された透明基板1全面に遮光膜5を形成する。次に、該遮光膜5表面が平坦になるまで、CMP法により遮光膜5を研磨する。次に、透明基板1表面が露出するまでエッチバックすることにより、溝4内部にのみ遮光膜5を残す。
請求項（抜粋）：
透明基板と該透明基板上に形成された遮光膜からなるパターンとを有するフォトマスクの製造方法において、上記透明基板の一部を選択的にエッチングし、溝を形成する工程と、該溝が形成された透明基板全面に遮光膜を堆積する工程と、該遮光膜表面が平坦になるまで、該遮光膜を研磨する工程と、上記透明基板表面が露出するまでエッチバックすることにより、上記溝内部にのみ遮光膜を残す工程とを有することを特徴とする、フォトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
