特許
J-GLOBAL ID：200903049269365751
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-170815
公開番号（公開出願番号）：特開2005-025178
出願日： 2004年06月09日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：
【課題】微細なパターンを解像しようとするときのパターン倒れが抑制され、且つPED安定性、ラインエッジラフネス、プロファイル、感度、解像力が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)特定の部分構造を有し、融点が、35°C以上、又は沸点が、100°C/10mmHg以上の少なくともいずれかを満たす非イオン性環状化合物及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用により、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、
(C)下記一般式(I)又は(II)で表される部分構造を少なくとも1個有し、
融点が、35°C以上、又は沸点が、100°C/10mmHg以上の少なくとも
いずれかを満たす非イオン性環状化合物及び
(D)溶剤
を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
