光学マスク及びその修正方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-328534
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165189
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：

【要約】【目的】位相シフトマスクの欠陥修正において、欠陥の形状によらない、高精度かつ容易に修正できる、光学マスク及びその修正方法の提供にある。【構成】位相シフトマスクの位相シフターとガラス基板間にエッチングストッパ層を設け、位相シフターの欠陥を荷電ビームとエッチングガスを組み合わせた反応性処理により、位相シフターの欠陥を選択性良く除去し、欠陥の形状に影響されずに、加工深さ精度の良い修正ができる。

請求項（抜粋）：

透明基板上に遮光パターンを形成し、特定の開口部に露光光の位相を変える位相シフターを設けた投影光学系用マスクにおいて、上記位相シフターと透明基板間に位相シフターのエッチングに耐性を有する透明なエッチングストッパ膜を設けたことを特徴とする光学マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/302

FI (3件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 301 W , H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-078216
特開平3-071133
特開平3-078747

全件表示

前のページに戻る