特許

J-GLOBAL ID：200903049312985505

イオン源およびイオンビーム装置

発明者： 上田 雅弘 ,  鈴木 正康 ,  小西 善之
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-131896
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327405
出願日： 2003年05月09日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】プラズマ中の電子を利用してイオンビーム照射対象のチャージアップを抑制できるイオンビーム装置の提供。【解決手段】イオン引き出し用電極8を構成するグリッドaに導電性部材から成るエレクトロンポート11を設ける。エレクトロンポート11は、管状部11bがグリッド8a〜8cに形成された孔を貫通するように固定される。エレクトロンポート11はグリッド8aと同一電位となるため、管状部1bの内部空間はグリッド8bの電位の影響を受けない。そのため、プラズマチャンバ9内の電子31は、グリッド8bの電位の影響を受けることなく基板12の正電荷に引かれるように、エレクトロンポート11を介してプロセスチャンバ2へと移動して基板12に入射する。その結果、基板12の帯電が中和される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

プラズマ生成手段と、 正電位の第1グリッドおよび負電位の第2グリッドを有し、前記プラズマ生成手段のプラズマ生成領域からイオンを引き出すイオン引き出し用電極と、 前記プラズマ生成領域の電子に対する前記第2グリッドの電位の影響を除去し、前記プラズマ生成領域とプラズマ生成領域外とを連通する連通部とを備えたことを特徴とするイオン源。

IPC (5件)：

H01J27/02 ,  C23C14/46 ,  C23F4/00 ,  H01J37/08 ,  H01J37/305

FI (5件)：

H01J27/02 ,  C23C14/46 B ,  C23F4/00 A ,  H01J37/08 ,  H01J37/305 A

Fターム (14件)：

4K029CA05 ,  4K029CA08 ,  4K029DC37 ,  4K057DA20 ,  4K057DD02 ,  4K057DD04 ,  4K057DM12 ,  4K057DM21 ,  4K057DN01 ,  5C030DD01 ,  5C030DE04 ,  5C030DG07 ,  5C030DG09 ,  5C034BB10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表平2-502234
  
• 空間電荷中和装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-353777   出願人：日新電機株式会社
• 特開昭62-216135
  
• イオンビーム処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-211932   出願人：株式会社日立製作所