特許
J-GLOBAL ID:200903049313619596
光学多層膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
渡辺 望稔
, 三和 晴子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-062166
公開番号(公開出願番号):特開2005-248276
出願日: 2004年03月05日
公開日(公表日): 2005年09月15日
要約:
【課題】良好な成膜速度を維持しつつ、多層化に伴う界面反応によって生じる界面遷移層による光学吸収がなく、光吸収が十分に小さいといった所望の透過率とすることができる光学多層膜を製造する光学多層膜の製造方法および該製造方法により製造される光学多層膜の提供。 【解決手段】スパッタ法を用いて光学多層膜を製造する光学多層膜の製造方法であって、 異なる金属酸化物からなる2以上の膜をスパッタにより成膜する場合において、先に成膜された一の膜上に他の膜をスパッタにより成膜する際に、少なくともスパッタ初期において、他の膜を形成するターゲットのスパッタ粒子が一の膜表面に付着した時に該一の膜表面の金属酸化物から酸素を引き抜かない条件で成膜する、光学多層膜の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
スパッタ法を用いて光学多層膜を製造する光学多層膜の製造方法であって、
異なる金属酸化物からなる2以上の膜をスパッタにより成膜する場合において、先に成膜された一の膜上に他の膜をスパッタにより成膜する際に、少なくともスパッタ初期において、他の膜を形成するターゲットのスパッタ粒子が一の膜表面に付着した時に該一の膜表面の金属酸化物から酸素を引き抜かない条件で成膜する、光学多層膜の製造方法。
IPC (6件):
C23C14/34
, B32B9/00
, C03C17/34
, C23C14/02
, C23C14/08
, G02B5/28
FI (7件):
C23C14/34 U
, B32B9/00 A
, C03C17/34 Z
, C23C14/02 A
, C23C14/08 E
, C23C14/08 G
, G02B5/28
Fターム (37件):
2H048GA04
, 2H048GA33
, 2H048GA54
, 2H048GA60
, 4F100AA17A
, 4F100AA17B
, 4F100AA20B
, 4F100AB12A
, 4F100AG00C
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA08
, 4F100EH662
, 4F100GB90
, 4F100JN01
, 4F100JN18A
, 4F100JN18B
, 4G059AA11
, 4G059AB01
, 4G059AB11
, 4G059AC09
, 4G059AC16
, 4G059AC18
, 4G059BB01
, 4G059EA01
, 4G059EA04
, 4G059EB04
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA22
, 4K029BA43
, 4K029BA48
, 4K029BC01
, 4K029BC02
, 4K029CA05
, 4K029FA01
, 4K029FA05
引用特許:
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