特許

J-GLOBAL ID：200903049321925310

ポジ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊 ,  白川 浩司
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-028335
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312055
出願日： 2001年02月05日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 高解像力を有するポジ型電子線又はX線レジスト組成物、更に高解像力に加えて高感度なポジ型電子線又はX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)電子線あるいはX線の照射により酸を発生する化合物、(B1)酸の作用により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解度が酸の作用により増大する分子量1000を超え、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、該低分子溶解阻止化合物の酸の作用により分解しうる基以外の部分に2個以上のトリフェニルメタン構造が非共役的に連結した構造を有することを特徴とするポジ型電子線またはX線レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線あるいはX線の照射により酸を発生する化合物、(B1)酸の作用により分解しうる基を有し、アルカリ現像液に対する溶解度が酸の作用により増大する分子量1000を超え、分子量3000以下の低分子溶解阻止化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、該低分子溶解阻止化合物の酸の作用により分解しうる基以外の部分に2個以上のトリフェニルメタン構造が非共役的に連結した構造を有することを特徴とするポジ型電子線またはX線レジスト組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/004 501 ,  C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/134 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/004 501 ,  C07C 39/15 ,  C07C 39/17 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/134 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-125006   出願人：株式会社東芝
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-251341   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-162256   出願人：ジェイエスアール株式会社