特許

J-GLOBAL ID：200903049458783866

電気光学装置の製造方法

発明者： 大野 達輝
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-315191
公開番号（公開出願番号）：特開2008-129378
出願日： 2006年11月22日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】枚葉式の基板処理装置におけるウェット処理において、基板に帯電する電荷量を抑制することが可能な電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】電気光学装置用の基板を鉛直軸周りに回転し、該基板の一方の面に対して複数の処理液を順次供給することにより前記基板を処理し、該処理中において前記基板側に開口した環状の複数の処理液案内部が上下方向に多段に配置されて構成される処理液回収手段により、前記基板から飛散する処理液を回収する電気光学装置の製造方法において、前記処理液回収手段の最も上方に設けられた前記処理液案内部のみにより、前記複数の処理液を回収し、前記処理液案内部に連通する複数の処理液回収経路を、前記回収された複数の処理液に応じて経路切換手段により切り換えることで、前記回収された複数の処理液を種類ごとに分離する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

電気光学装置用の基板を鉛直軸周りに回転し、該基板の一方の面に対して複数の処理液を順次供給することにより前記基板を処理し、該処理中において前記基板側に開口した環状の複数の処理液案内部が上下方向に多段に配置されて構成される処理液回収手段により、前記基板から飛散する処理液を回収する電気光学装置の製造方法であって、 前記処理液回収手段の最も上方に設けられた前記処理液案内部のみにより、前記複数の処理液を回収し、 前記処理液案内部に連通する複数の処理液回収経路を、前記回収された複数の処理液に応じて経路切換手段により切り換えることで、前記回収された複数の処理液を種類ごとに分離することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (7件)：

G09F 9/00 ,  G02F 1/136 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G09F9/00 338 ,  G02F1/1368 ,  H01L29/78 623A ,  H01L21/306 J ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B ,  H01L21/30 572B

Fターム (51件)：

2H092JA25 ,  2H092JB63 ,  2H092JB69 ,  2H092MA05 ,  2H092MA18 ,  2H092MA35 ,  2H092MA37 ,  2H092NA25 ,  2H092NA27 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  5F043EE08 ,  5F043EE09 ,  5F043EE33 ,  5F046MA10 ,  5F046MA19 ,  5F110AA22 ,  5F110BB01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD13 ,  5F110EE09 ,  5F110HL01 ,  5F110HL02 ,  5F110HL03 ,  5F110HL05 ,  5F110HL06 ,  5F110HL08 ,  5F110HL11 ,  5F110HM15 ,  5F110NN03 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN42 ,  5F110NN44 ,  5F110NN46 ,  5F110NN47 ,  5F110NN48 ,  5F110NN71 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5G435AA16 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435KK05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 基板処理方法および基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-246410   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-195956   出願人：大日本スクリーン製造株式会社