リトグラフ装置およびデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-247641
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079586
出願日： 2004年08月27日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】放射線の投影ビームを供給する照射系と、自身上の前記放射線投影ビームのビーム路に配置すべき平坦な物品を支持し、支持面を提供するために突起形状を画定する複数の支持突起を備える物品支持体と、前記物品支持体から前記物品を解放する解放手段とを備えるリトグラフ装置を提供する。【解決手段】本発明によると、前記物品支持体は、解放中に前記複数突起の少なくとも境界部分を保護するよう、前記複数突起の境界付近に位置した少なくとも1つの保護部材を有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

投影放射線ビームを供給する照射系と、平坦物品を支持するための物品支持体と、該物品支持体から前記平坦物品を解放するための解放手段とを含み、前記平坦物品は、前記物品支持体上で投影放射線ビームのビーム路に配置され、前記物品支持体は、支持平面を与えるための隆起輪郭を規定する複数の支持突起を有する構成のリトグラフ装置において、前記物品支持体が、解放中に、前記複数の支持突起のうちの少なくとも境界部分を保護するように、前記複数の支持突起の境界近傍に位置する少なくとも1つの保護部材を有することを特徴とするリトグラフ装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/68 N , H01L21/30 515F

Fターム (18件)：

5F031CA02 , 5F031CA07 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA08 , 5F031HA10 , 5F031HA33 , 5F031MA27 , 5F031PA14 , 5F031PA26 , 5F031PA30 , 5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC08 , 5F046CC09 , 5F046CD01 , 5F046CD02

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板吸着保持装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-370883 出願人：キヤノン株式会社
ウエハ保持台用セラミックス部材の作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-277657 出願人：住友金属工業株式会社
基板保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-146796 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る