特許
J-GLOBAL ID：200903094288850763

基板保持装置、基板搬送システム、露光装置、塗布装置およびデバイス製造方法ならびに基板保持部クリーニング方法

発明者：
高林 幸夫

高林 幸夫 について

, 
鵜澤 繁行

鵜澤 繁行 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 西山 恵三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119631
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311933
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【課題】 異物の付着を軽減し、あるいは異物を速やかに除去させるクリーニング手段を提供する。【解決手段】 本発明の基板保持装置は、基板保持部に光触媒反応を生成する薄膜を形成することを特徴とする。この構成によって、素子製造上の歩留まりを悪化させる異物を付着しにくくする手段、あるいは、速やかに除去させる手段を提供することを目的とする。
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持装置であって、基板を保持する基板保持部に光触媒反応を生成する薄膜を形成することを特徴とする基板保持装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 645
FI (4件)：
H01L 21/68 P ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 503 A
Fターム (11件)：
5F031EA04 ,  5F031GA32 ,  5F031HA08 ,  5F031HA10 ,  5F031HA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CC08
引用特許：
審査官引用 (7件)
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