特許
J-GLOBAL ID：200903049508726559

水処理装置

発明者：
山嵜 和幸

山嵜 和幸 について

, 
坂田 和之

坂田 和之 について

, 
中條 数美

中條 数美 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (2件)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-273562
公開番号（公開出願番号）：特開2007-083143
出願日： 2005年09月21日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】 マイクロナノバブルの発生状態の最適化を図る。【解決手段】 超純水製造装置5,希薄排水回収装置34,雑用水回収装置および排水処理装置の各前段に、第1処理槽1〜第4処理槽を設置している。そして、各処理槽1,2,...を、マイクロナノバブル発生槽6,23,...と嫌気測定槽7,24,...とで構成している。したがって、各マイクロナノバブル発生槽6,23,...で発生されたマイクロナノバブルによって、各嫌気測定槽7,24,...内の微生物が活性化されて低濃度有機物の処理効率が向上される。さらに、上記各嫌気測定槽7,24,...における各溶存酸素計13,30,...または各酸化還元電位計14,31,...の測定値が夫々に定められた一定の範囲を越えると循環ポンプ9,26,...の回転数が制御されて、マイクロナノバブルの発生が減少される。こうして、処理水中におけるマイクロナノバブルの含有量が適正に保たれる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
外部から水が導入されると共に、マイクロバブルとナノバブルとの両方を含むマイクロナノバブルを発生するマイクロナノバブル発生器を有して、上記導入された水中に上記マイクロナノバブルを含有させるマイクロナノバブル発生槽と、 上記マイクロナノバブル発生槽から導入された水を嫌気性処理すると共に、被処理水中における上記マイクロナノバブルの含有量を測定するための嫌気測定槽と を備えたことを特徴とする水処理装置。
IPC (5件)：
C02F 1/34 ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/28 ,  B01F 3/04
FI (5件)：
C02F1/34 ,  C02F1/28 D ,  C02F3/10 Z ,  C02F3/28 B ,  B01F3/04 F
Fターム (40件)：
4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003CA02 ,  4D003CA03 ,  4D003CA10 ,  4D003DA29 ,  4D003EA01 ,  4D003EA20 ,  4D003FA05 ,  4D003FA10 ,  4D024AA03 ,  4D024AA04 ,  4D024BA02 ,  4D024DB03 ,  4D024DB05 ,  4D024DB16 ,  4D024DB21 ,  4D037AA03 ,  4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037BA26 ,  4D037CA01 ,  4D037CA02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA07 ,  4D037CA08 ,  4D040AA04 ,  4D040AA24 ,  4D040AA25 ,  4D040AA34 ,  4D040AA61 ,  4D624AA03 ,  4D624AA04 ,  4D624BA02 ,  4D624DB03 ,  4D624DB05 ,  4D624DB16 ,  4D624DB21 ,  4G035AB20 ,  4G035AE19
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (7件)
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